電子工業(yè)對(duì)電子級(jí)HCl的要求
現(xiàn)在電子級(jí)氯化氫氣體使用的越來(lái)越多,對(duì)它的要求也越來(lái)越高,我們一起看一下電子級(jí)氯化氫氣體的要求有哪些,我們以后該如何來(lái)制造電子級(jí)氯化氫氣體。
隨著微電子工業(yè)向著大尺寸、高集成化、高均勻性和高完整性方向的飛速發(fā)展,對(duì)廣泛用于單晶硅氣相拋光和外延機(jī)座腐蝕的電子級(jí)氯化氫也有了新的要求。除了應(yīng)具有99.999%以上的純度,還要求氯化氫的THC、H2O和金屬離子等有機(jī)雜質(zhì)的含量越低越好。
電子級(jí)氯化氫主要用于外延生長(zhǎng)前硅和砷化鎵高溫氣相刻蝕,清除鈉離子。另外高純氯化氫也用于金屬表面化學(xué)處理,激光用混合氣、膠片生產(chǎn)及碳纖維表面處理。過(guò)去我國(guó)大多從美、日等國(guó)進(jìn)口電子級(jí)氯化氫,但近年來(lái),我國(guó)電子工業(yè)所需的化學(xué)氣體的研制,在技術(shù)上已有不少突破和發(fā)展。
我公司長(zhǎng)期供應(yīng)各種規(guī)格高品質(zhì)氯化氫產(chǎn)品,并提供氯化氫專用配套設(shè)施、設(shè)備、閥門(mén)、減壓器,并提供優(yōu)質(zhì)技術(shù)服務(wù)和售后。
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